梁孟松在三星电子的技术决策中发挥关键作用。台积电CEO方舒华曾指出,梁孟松凭借对技术路线的深刻理解,建议三星电子放弃20纳米FDSOI技术研发,直接转向14纳米FinFET技术优势路线。这一决策使三星电子跳过20纳米工艺缺陷阶段,实现14纳米工艺突破,并于2014年量产,成功缩小与台积电的技术差距。
半导体行业的技术路线选择直接影响企业竞争力。FDSOI技术瓶颈导致氧化层厚度难以突破,而FinFET技术利用垂直结构解决了漏电问题,成为主流方向。联华电子和格罗方德因坚持FDSOI阵营而发展受挫,而台积电和三星电子凭借FinFET技术路线持续领先。20纳米工艺因成本高、性能提升有限,被多数厂商视为过渡工艺,仅少数领域采用。
台积电与三星电子的专利诉讼涉及商业机密保护问题。尽管台积电怀疑三星电子侵权,但因缺乏直接证据且顾虑三星电子作为间接大客户的商业关系,未发起诉讼。此前,中芯国际因员工泄露台积电技术流程被判赔偿,凸显商业机密保护立法的重要性。台湾地区2013年修订营业秘密法,增加刑责和罚金,以应对技术泄密案件频发的趋势。
半导体行业竞争加剧,技术流动与人才挖角成为常态。台积电从IBM、英特尔引入人才,三星电子和中芯国际也通过挖角获取技术优势。商业机密泄露案的赔偿金额常高于专利侵权,且司法实践中保护力度逐步加强。行业共识认为,技术路线决策与商业机密保护立法是影响企业成败的关键,需通过法律手段维护创新成果与市场地位。