036 “虽千万人，吾往矣”

林本坚出生于越南，接受中英双语教育，后赴美攻读电机工程博士。其早期在IBM从事光刻技术研究，主导开发了DUV（深紫外光）技术，成为半导体光刻技术的主流方案之一。在IBM期间，他坚持光学光刻技术发展，与当时主流的X光光刻技术研发团队形成对立，提出显示光刻设想但未获支持。
1992年林本坚离开IBM创业，2000年加入台积电技术团队，负责突破光刻技术瓶颈。面对193纳米激光波长无法满足摩尔定律需求的难题，他提出浸润式光刻方案：通过在透镜与晶圆间加水层，利用光线折射率研究，将波长缩短至134纳米。这一低成本创新颠覆了尼康等厂商主张的157纳米稳健路线，但因技术风险和行业巨头的巨额前期投入，遭到普遍反对。
林本坚顶住压力，通过发表论文、全球游说推动技术验证，最终以“虽千万人，吾往矣”的决心改写光刻史。其浸润式光刻方案不仅突破技术限制，更验证了光学光刻技术发展的持续潜力，而X光光刻技术研发至今仍未实现商用。这一突破奠定了台积电在半导体产业的领先地位，并深刻影响全球光刻技术演进路径。